【新着動画】【粉体の表面改質】ALDによる親水化と耐酸性のメカニズムを徹底解説
菅製作所の公式YouTubeチャンネルにて、新しい動画を公開しました! 今回は、デスクトップ型ALD装置「SAL1000B」で銅粉末にアルミナ(Al₂O₃)を成膜した実験をもとに、親水化の仕組みや希硝酸との反応について詳しく解説します。 前回の実験では、アルミナを成膜した銅粉末が水に沈
菅製作所の公式YouTubeチャンネルにて、新しい動画を公開しました! 今回は、デスクトップ型ALD装置「SAL1000B」で銅粉末にアルミナ(Al₂O₃)を成膜した実験をもとに、親水化の仕組みや希硝酸との反応について詳しく解説します。 前回の実験では、アルミナを成膜した銅粉末が水に沈
めっき工程では、前処理や水洗などに水を使用するため、工程に応じて排水が発生します。排水に含まれる物質によっては、適切な処理や管理が必要となり、設備・薬品・維持管理などの負担につながります。 こうした背景から、 「めっきの排水処理を減らしたい」 「排水処理設備の負担を抑えた
菅製作所の公式YouTubeチャンネルにて、最新動画を公開いたしました! 今回は、菅製作所のキュービックスパッタ装置「SSP1000」を使用して、アルミナ粉末へのチタンのスパッタリング成膜を行う実験をご紹介します。 通常の成膜では、ウエハーなどの基板を固定して成膜しますが、粉体への成膜
いつも弊社YouTubeチャンネルをご視聴いただき、誠にありがとうございます。 おかげさまで、この度チャンネル登録者数が500名を突破いたしました。 2026年5月22日に300名突破のお知らせをしてから、わずか4か月ほどで500名を迎えることができ、大変嬉しく思っております。
真空蒸着で金属膜を形成していると、 「基板の正面には十分な膜が付くのに、側面や凹部には膜が付きにくい」 「立体形状のサンプルで膜厚にばらつきが出る」 といった問題が起こることがあります。 こうした成膜しにくい部分への膜の付き方、いわゆる「回り込み」を改善するには、基
菅製作所の公式YouTubeチャンネルにて、最新動画を公開いたしました! 今回は、前回の動画で行った「100均のカッターの刃への窒化チタンコーティング」の実験をさらに掘り下げ、窒化チタン(TiN)が形成される仕組みを、反応性スパッタリングのミクロなメカニズムから解説します。 菅製作所の
プラスチックや樹脂の表面に金属膜を形成したいものの、 「成膜時の熱で基材が変形してしまう」 「耐熱温度を超えてしまうのが心配」 という方もいるのではないでしょうか。 プラスチックは、金属やセラミックスと比べて熱の影響を受けやすい材料があり、成膜方法や条件によっては、
2026年 第87回 応用物理学会 秋季学術講演会が、北海道大学 札幌キャンパス にて9月8日(火)~11日(金)の4日間開催されます。 弊社もブース「小間No. B-18」にて、小型原子層堆積装置「SAL1000 デスクトップ型ALD装置」と卓上型スパッタ装置「SSP1000 キュービック
樹脂やフィルムなどの熱に弱い素材に金属膜を形成したいものの 「成膜時の熱で基材が変形してしまわないか」 「金属膜がきちんと密着するのか」と悩んでいませんか。 金属膜の成膜方法には、真空蒸着やスパッタリングなどがあります。なかでもスパッタリングは、金属を加熱して蒸発させるの
菅製作所の公式YouTubeチャンネルにて、最新動画を公開いたしました! 今回は、菅製作所のキュービックスパッタ装置「SSP1000」を使用して、カッターの刃にチタンおよび窒化チタン(TiN)のコーティングを行う実験に挑戦しました。 チタンをターゲットとしてスパッタリングを行い、さらに
2026年 第87回 応用物理学会 秋季学術講演会が、北海道大学 札幌キャンパス にて9月8日(火)~11日(金)の4日間開催されます。弊社もブース「小間No.B-18」にて、小型原子層堆積装置「SAL1000 デスクトップ型ALD装置」と卓上型スパッタ装置「SSP1000 キュービックスパッタ装
菅製作所の公式YouTubeチャンネルにて、最新動画を公開いたしました! 今回のテーマは、半導体製造において重要な役割を担う「CMP(Chemical Mechanical Polishing/化学機械研磨)」です。 半導体の製造では、成膜やエッチングなどの工程を繰り返すことで、ウエハ
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