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サンプル表面の電子状態(仕事関数)をリアルタイムで2次元マッピング
サンプル表面の電子状態(仕事関数)をリアルタイムで2次元マッピング
小型の卓上型スパッタ装置エントリーモデル、成膜方向を自在に変更可能
2元カソードのスリムタワー、拡張可能型
グローブボックス搭載の2元カソードモデル、オートマッチャー標準搭載
3元カソード、基板加熱MAX800℃、膜厚分布±3%
3元カソード、基板加熱MAX800℃、膜厚分布±3%、拡張可能型
卓上型ALD装置、エントリーモデル
粉体・固形粒子への全周囲成膜を可能にした卓上型ALD
グローブボックス付きの卓上型ALD、粉体への成膜にも対応
デポ方向、グローブボックス、ロードロック室の選択が可能
拡張可能型のALD、デポ方向選択可、基板加熱MAX800℃
基板への高温加熱処理(アニール)や不活性ガス導入による熱処理時の圧力コントロールが可能
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