SAL1000
卓上型ALD装置、エントリーモデル
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原子層1層枚の均一なコントロールを行い、高膜質・段差被膜性の高い成膜が可能な、研究開発用の小型原子層堆積装置です。
Arイオンをプラズマ放電下でターゲットに衝突させ、叩き出された材料が基板に付着するスパッタリング現象を利用した成膜装置です。
SPS焼結法またはPECSとも呼ばれる高エネルギー密度加工を応用した、高性能・高品質焼結を可能とする新世代の材料合成装置です。
紫外光などの照射に対してサンプルから放出される光電子を検出することで、表面の仕事関数を可視化する顕微鏡です。
真空装置、真空設備の構成に必要な配管部品を提供しております。
熱源に設置した金属材料を蒸発させ基板へ成膜する真空蒸着装置です。
基板への高温の熱処理、ガス置換が可能です。SAN2000Plusはプラズマ処理が可能です。
石英の炉芯管内に設置したサンプルを加熱する雰囲気制御型加熱装置です。
宇宙環境の疑似再現や衛星部品の開発に使用できます。
エンジンの動力を発電機やポンプなどに伝達するクラッチ、船用向けに開発された油圧クレーン、揚網機、ウィンチ等。
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原子層1層枚の均一なコントロールを行い、高膜質・段差被膜性の高い成膜が可能な、研究開発用の小型原子層堆積装置です。
また、関連装置として成膜後の膜質改善用途に、アニール装置を紹介します。
卓上型ALD装置、エントリーモデル
粉体・固形粒子への全周囲成膜を可能にした卓上型ALD
グローブボックス付きの卓上型ALD、粉体への成膜にも対応
従来モデルSAL1000Bの最大5ccの資料容量に対し「より多いペレットや粉体試料を成膜したい!」というご要望を受けて誕生。1バッチ 160ccまで成膜可能。
デポ方向、グローブボックス、ロードロック室の選択が可能
拡張可能型のALD、デポ方向選択可、基板加熱MAX800℃
基板への高温加熱処理(アニール)や不活性ガス導入による熱処理時の圧力コントロールが可能
MAX1000℃の温度制御やRF電源搭載が可能、拡張可能型装置に接続できる
Arイオンをプラズマ放電下でターゲットに衝突させ、衝突により叩き出されたターゲット材料が対向する基板に付着するスパッタリング現象を利用した成膜装置です。
また、関連装置として成膜後の膜質改善用途に、アニール装置を紹介します。
小型の卓上型スパッタ装置エントリーモデル、成膜方向を自在に変更可能
卓上タイプの粉体用スパッタ装置
2元カソードのスリムタワー、拡張可能型
グローブボックス搭載の2元カソードモデル、オートマッチャー標準搭載
3元カソード、基板加熱MAX800℃、膜厚分布±3%
3元カソード、基板加熱MAX800℃、膜厚分布±3%、拡張可能型
基板への高温加熱処理(アニール)や不活性ガス導入による熱処理時の圧力コントロールが可能
MAX1000℃の温度制御やRF電源搭載が可能、拡張可能型装置に接続できる
経費を抑えて短時間で多様な実験をこなすことができる、大学や研究所でのR&Dに最適なエントリーモデルです。
紫外光などの照射に対してサンプルから放出される光電子を検出することで、表面の仕事関数を可視化する顕微鏡です。
サンプル表面の電子状態(仕事関数)をリアルタイムで2次元マッピング
熱源に設置した金属材料を蒸発させ基板へ成膜する真空蒸着装置です。
金属膜又は酸化膜等を成膜することを目的とした真空蒸着装置です。
石英の炉芯管内に設置したサンプルを加熱する雰囲気制御型加熱装置です。
炉芯管内の正確な温度制御、圧力制御、水蒸気導入、急冷に対応
宇宙環境の疑似再現や衛星部品の開発に使用できます。
液体窒素循環式シュラウドや多数の導入ポートを搭載
エンジンの動力を発電機やポンプなどに伝達します。
Installation Case
今回は、菅製作所の放電プラズマ焼結装置を導入している、東京都市大学理工学部機械工学科機械材料研究室 准教授 丸山 恵史(マルヤマ サトフミ)氏にお話を伺いま
今回は、菅製作所のスパッタ装置を導入している、北海道大学大学院情報科学研究院 ナノエレクトロニクス研究室 教授 末岡 和久(すえおか かずひさ)氏にお話を伺いま
今回は、菅製作所のALD装置を導入している、北海道大学 量子集積エレクトロニクス研究センター 特任教授 工学博士 橋詰 保(はしづめ たもつ)氏にお話を伺いまし
Company Profile
1946年に漁船用機器の修理業で創業、その後、漁船用船舶機器の製造販売を開始し、長年漁船向けの動力伝達用クラッチシステムを中心に、油圧機器、漁労機器などの船舶用機器を提供してまいりました。
これから先の未来も、製品・サービス・技術を通じて、多くのお客様のお役に立ちできる企業を目指し励んで参ります。
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