粉体専用スパッタリングシステムスパッタシステムとは、プラズマ放電下でイオン化させたArガスを高速でターゲットに衝突させ、衝突により叩き出されたターゲット原子が対向する基板に付着するスパッタリング現象を利用したPVD方式の薄膜形成システムです。
SSP1500B
コンパクトな卓上タイプの粉体用平行平板
マグネトロンスパッタリングシステム
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POINT
- 斜め回転式試料ホルダーを装備
- 粉体を撹拌しながら成膜が可能
本体寸法
W385mm×D438mm×H635mm（電源架台除く）
| カソード | 基板加熱 | 複合化 |
|---|---|---|
| 1基 | 無し | × |
国立研究開発法人物質・材料研究機構(NIMS)と東京大学の共同研究チームによる熱電変換材料の研究において、YIG(イットリウム鉄ガーネット)粉末表面へのPt(白金)コーティング工程にSSP1500Bがご使用いただきました。本研究では、粉体表面をナノスケールで均一にスパッタコーティングする技術を活かし、絶縁体中のスピン流を利用した新しい熱電変換構造(トランススケール・スピンゼーベック効果)の実証に貢献しています。
研究成果は2026年7月21日、Nature Communications誌に掲載されました。
詳細はNIMSプレスリリース(https://www.nims.go.jp/press/2026/07/202607210.html)および論文(DOI: 10.1038/s41467-026-75232-0)(https://www.nature.com/articles/s41467-026-75232-0)をご参照ください。