粉体用スパッタ装置スパッタ装置とは、プラズマ放電下でイオン化させたArガスを高速でターゲットに衝突させ、衝突により叩き出されたターゲット原子が対向する基板に付着するスパッタリング現象を利用したPVD方式の薄膜形成装置です。

SSP1500B

間もなく登場！
コンパクトな卓上タイプの粉体用平行平板
マグネトロンスパッタリング装置

POINT

  • 斜め回転式試料ホルダーを装備
  • 粉体を撹拌しながら成膜が可能

本体寸法

W385mm×D368mm×H635mm（電源架台除く）

カソード基板加熱複合化
1基無し×