卓上アニール・窒化処理装置ウェハーを真空中で高温の加熱処理することにより膜の改質が行える装置です。

SAN1000

基板への高温加熱処理(アニール)や
不活性ガス導入による熱処理時の
圧力コントロールが可能。

POINT

  • N2またはArガス導入時でも1000℃まで均一・急速加熱
  • 基板を吹き飛ばさず急速冷却
  • 省スペース配置が可能な小型サイズ

本体寸法

W582mm×D450mm×H411mm

加熱制御温度到達圧力複合化
200℃〜
1000℃
≦10Pa

概要・用途

 

SAN1000卓上アニール・窒化処理装置は、4インチまでの基板を赤外線照射により、真空中またはガス雰囲気中のクリーンな環境で加熱処理することができます。

また、卓上設置型ができる小型サイズで、チャンバーに水冷機構、基板にガスフローによる冷却機構を備えており処理後の基板を短時間で取り出すことのできるバッチ式の装置です。

 

 

特徴

【特徴1】熱処理方法

ドライスクロールポンプにより排気したチャンバー内で基板熱処理が可能です。また、ニードルバルブで流量を調節し、種々の真空ガス雰囲気中での熱処理ができます。流量はマスフローモニタにより再現性良く調節ができます。

【特徴2】多様性

200℃からMAX1000℃までの急速昇温が可能です。

【特徴3】均一に加熱処理

4インチ実基板温度800℃時の温度分布は±1.5%以内で均一な基板加熱ができます。

【特徴4】急速冷却が可能

水冷式コールドウォール構造と基板冷却ガス機構を併用しているため、急速冷却が可能です。

【特徴5】その他

卓上バッチ式の小型なアニール装置です。

 

性能

【特徴1】優れた温度制御

最適なPIDアルゴリズムにより、優れた温度制御ができます。

【特徴2】優れた操作性

ガス流量、冷却水通水(インターロック付き)を確認後、加熱ボタンを押すだけであらかじめ設定した昇温条件に従って自動で処理が可能です。冷却機構により処理後の取り出しも素早く実行可能で繰り返し処理を行う際にも短時間で実施できます。

【特徴3】優れた安全性

チャンバー全面水冷とし、真空排気、加熱、冷却水量等の各種インターロックにより、安全性の高い装置となっています。

SAN1000仕様表

 

SAN1000外観図

 

修理・改造

弊社装置に関わる保守サービスは、北海道の本社及び静岡県の拠点から技術者を派遣して対応致します。また、改造・保守に関わる事前お打合せについては北海道と関東地区に駐在している営業担当者にて対応致します。
装置の導入後も安心して装置をご使用頂けるよう体制を整えております。

装置の御納入後の定められた保証期間内は、弊社が定める一定の条件(天災や誤った使用方法に起因する故障)に含まれない初期不良等の不具合に対しては無償による修理対応を行います。
詳細はお問い合わせください。

修理メンテナンスメニュー例

  • 装置の定期メンテナンス、不具合時のサービス対応。
  • 装置の改造や機能追加、それらに伴うプログラムソフトの変更。
  • 装置の移設、レイアウト変更。
  • オペレーショントレーニング。(ユーザー様の運用担当者の交代時など)
  • 消耗品の購入。
  • メール、お電話等で解決するご質問。

 

改造

装置の導入後でも、実験内容や使用条件の変更に伴う改造に関する業務を承ります。

【改造事例】

  • 各種の機能追加変更や部品交換。
  • プログラムの改良、アップデート。
  • 補助ポンプの大型化。
  • 冷却水循環装置(チラー)の追加。
  • その他、ご要望に応じた改造、現地サービス。