MyPEEM
サンプル表面の電子状態(仕事関数)をリアルタイムで2次元マッピング
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真空装置
研究開発支援機器
真空装置
光放出電子顕微鏡（PEEM）
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紫外光などの照射に対してサンプルから放出される光電子を検出することで、表面の仕事関数を可視化する顕微鏡です。
スパッタ装置
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Arイオンをプラズマ放電下でターゲットに衝突させ、衝突により叩き出されたターゲット材料が対向する基板に付着するスパッタリング現象を利用した成膜装置です。
また、関連装置として成膜後の膜質改善用途に、アニール装置を紹介します。
SSP1000
小型の卓上型スパッタ装置エントリーモデル、成膜方向を自在に変更可能
SSP2000Plus
2元カソードのスリムタワー、拡張可能型
SSP2500G
グローブボックス搭載の2元カソードモデル、オートマッチャー標準搭載
SSP3000
3元カソード、基板加熱MAX800℃、膜厚分布±3%
SSP3000Plus
3元カソード、基板加熱MAX800℃、膜厚分布±3%、拡張可能型
SAN1000
基板への高温加熱処理(アニール)や不活性ガス導入による熱処理時の圧力コントロールが可能
SAN2000Plus
MAX1000℃の温度制御やRF電源搭載が可能、拡張可能型装置に接続できる
ALD装置
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原子層１層枚の均一なコントロールを行い、高膜質・段差被膜性の高い成膜が可能な、研究開発用の小型原子層堆積装置です。
また、関連装置として成膜後の膜質改善用途に、アニール装置を紹介します。
SAL1000
卓上型ALD装置、エントリーモデル
SAL1000B
粉体・固形粒子への全周囲成膜を可能にした卓上型ALD
SAL1000G
グローブボックス付きの卓上型ALD、粉体への成膜にも対応
SAL1100
従来モデルSAL1000Bの最大5ccの資料容量に対し「より多いペレットや粉体試料を成膜したい！」というご要望を受けて誕生。1バッチ 160ccまで成膜可能。
SAL3000
デポ方向、グローブボックス、ロードロック室の選択が可能
SAL3000Plus
拡張可能型のALD、デポ方向選択可、基板加熱MAX800℃
SAN1000
基板への高温加熱処理(アニール)や不活性ガス導入による熱処理時の圧力コントロールが可能
SAN2000Plus
MAX1000℃の温度制御やRF電源搭載が可能、拡張可能型装置に接続できる
蒸着装置
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熱源に設置した金属材料を蒸発させ基板へ成膜する真空蒸着装置です。
SEV2000Plus
金属膜又は酸化膜等を成膜することを目的とした真空蒸着装置です。
アニール装置
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基板への高温の熱処理、ガス置換が可能です。SAN2000Plusはプラズマ処理が可能です。
トランスファーユニット
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基板の受け渡しやロードロック機能を担う基板搬送アームです。
STR2000
PLUSシリーズ3台までと連結できる省スペースの自動基板搬送アーム
加熱炉
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石英の炉芯管内に設置したサンプルを加熱する雰囲気制御型加熱装置です。
SAF3000
炉芯管内の正確な温度制御、圧力制御、水蒸気導入、急冷に対応
スペースチャンバー
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宇宙環境の疑似再現や衛星部品の開発に使用できます。
スペースチャンバー
液体窒素循環式シュラウドや多数の導入ポートを搭載
その他装置
ウェットエッチング装置
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マスクされていない薄膜を除去するエッチング工程に使用します。
SWE1000
スプレーによる噴霧で薬液・純水・窒素を導入、レシピ作成可能
真空機器一覧
新素材開発機器
材料合成装置
放電プラズマ焼結装置
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SPS2000
経費を抑えて短時間で多様な実験をこなすことができる、大学や研究所でのR&Dに最適なエントリーモデルです。
船舶用機器
システム装置
船舶用クラッチ
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エンジンの動力を発電機やポンプなどに伝達します。
油圧クレーン
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舶用向けに開発された油圧クレーンです。
シェルック
3種類のタイプがあり、ホタテ養殖船、牡蠣養殖船及び小型定置船に採用
油圧漁労機
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漁船の揚網作業向けの揚網機、ウィンチ等をご紹介します。
コンポーネント
プーリ、プーリアダプタ
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確かな動力伝達を約束致します。
ドラム
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各種揚縄に対応出来る豊富なラインナップを取り揃えております。
