真空装置 製品一覧

  • SSP1000

    小型の卓上型スパッタ装置エントリーモデル、成膜方向を自在に変更可能

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  • SSP2000Plus

    2元カソードのスリムタワー、拡張可能型

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  • SSP2500G

    グローブボックス搭載の2元カソードモデル、オートマッチャー標準搭載

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  • SSP3000

    3元カソード、基板加熱MAX800℃、膜厚分布±3%

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  • SSP3000Plus

    3元カソード、基板加熱MAX800℃、膜厚分布±3%、拡張可能型

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  • SAL1000B

    粉体・固形粒子への全周囲成膜を可能にした卓上型ALD

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  • SAL1000G

    グローブボックス付きの卓上型ALD、粉体への成膜にも対応

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  • SAL3000【テスト成膜可能】

    デポ方向、グローブボックス、ロードロック室の選択が可能

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  • SAL3000Plus

    拡張可能型のALD、デポ方向選択可、基板加熱MAX800℃

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  • SAN1000

    基板への高温加熱処理(アニール)や不活性ガス導入による熱処理時の圧力コントロールが可能

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  • SAN2000Plus

    MAX1000℃の温度制御やRF電源搭載が可能、拡張可能型装置に接続できる

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