スパッタ装置 製品一覧

Arイオンをプラズマ放電下でターゲットに衝突させ、衝突により叩き出されたターゲット材料が対向する基板に付着するスパッタリング現象を利用した成膜装置です。

  • SSP1000

    小型の卓上型スパッタ装置エントリーモデル、成膜方向を自在に変更可能

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  • SSP2000Plus

    2元カソードのスリムタワー、拡張可能型

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  • SSP2500G

    グローブボックス搭載の2元カソードモデル、オートマッチャー標準搭載

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  • SSP3000

    3元カソード、基板加熱MAX800℃、膜厚分布±3%

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  • SSP3000Plus

    3元カソード、基板加熱MAX800℃、膜厚分布±3%、拡張可能型

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