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パートナーであるCalifornia Nanotechnologies Inc.がTMS2026と連携してSPS/FASTワークショップを開催することになりました。彼らのファクトリーツアーも企画されており、実際に私たちのSPS2000を見学していただける良い機会ですので是非ご参加ください。

本動画では、原子層堆積法（ALD）によって材料表面の濡れ性を制御する技術──親水性と疎水性のコントロール──について、基礎からわかりやすく解説しています。＜この動画で分かること＞・親水性／疎水性とは何か、その違いと意味・ALD成膜プロセスが表面の性質にどのように影響するのか・ALD

本動画では、原子層堆積法（ALD）が二次電池分野にもたらす革新的な効果について、わかりやすく解説しています。＜この動画で分かること＞・ALD技術が電池性能にどのように寄与するのか・電池の寿命改善や安全性向上につながるメカニズム・正負極・電解質界面におけるALDの役割・実用化に向けた

このたび、菅製作所の公式YouTubeチャンネルのチャンネル登録者数が200人を突破いたしました。これもひとえに、日頃より動画をご覧いただき、ご登録・高評価・コメントをお寄せくださっている皆さまの温かいご支援のおかげです。心より感謝申し上げます。今後も、皆さまに価値ある情報・技術解

平素より格別のご愛顧を賜り、厚く御礼申し上げます。株式会社菅製作所は、永年にわたりご提供してまいりましたROM書込み事業を、2025年12月20日をもちまして終業することとなりました。これまで多くのお客様にお引き立てを賜りましたこと、心より感謝申し上げます。皆様からのご支援

本動画では、半導体の高精度・高信頼性を左右する膜厚の均一性──特に「面内分布（膜の厚みムラ）」の重要性に焦点を当て、なぜこのムラが問題となるのか、その原因と対策を詳しく説明しています。＜この動画で分かること＞・面内分布とは何か、なぜ半導体製造で課題となるのか・膜厚ムラがデバイス性能

株式会社菅製作所では、下記の期間を年末年始の休業日とさせていただきます。皆様には大変ご迷惑をおかけいたしますが、ご了承いただきますようお願い申し上げます。2026年1月5日（月）より、通常営業を開始いたします。 2025年12月30日（火）〜2026年1月4日（日）休業

本動画では、半導体製造や薄膜成膜技術においてキーファクターとなる“プリカーサ（前駆体）”に焦点を当て、その役割・特性・種類を丁寧に解説しています。＜この動画で分かること＞・原子層堆積（ALD）におけるプリカーサ（前駆体）の持つ特性（反応性、揮発性、安定性など）・代表的なプリカーサ（

本動画では、次世代半導体製造を支える重要技術である原子層堆積法（ALD：Atomic Layer Deposition）について、その原理から活用例までをわかりやすく解説しています。＜この動画で分かること＞・原子一層ずつ薄膜を形成するALDプロセスの仕組み・微細化が進む半導体分野で

このたび、当社の技術が令和7年度北海道地方発明表彰において、栄えある「文部科学大臣賞」を受賞いたしました。　発明名称：脱ガス機能を有した放電プラズマ焼結装置　（特許第7578259号、特許第7602302号）　使用装置：SPS2000（放電プラズマ焼結装置）　詳細はこちら 👉 SPS20

菅製作所のYouTubeチャンネルにて、新作動画「真空ポンプの種類と選び方｜メリット・デメリットを徹底解説」を公開しました。真空をつくり出す上で欠かせない「真空ポンプ」ですが、その種類や到達できる真空度は大きく異なります。本動画では、大気圧から真空を作る「粗引きポンプ」から、さらに

菅製作所のYouTubeチャンネルにて、新作動画「スパッタ装置の電源の基本！これであなたもスパッタマスター」を公開しました。本動画では、スパッタ装置に欠かせない「電源」の役割と種類について、初心者の方にもわかりやすく解説しています。「DCとRFの違いは？」「どの材料にどの電源が適しているの

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