本動画では、次世代半導体製造を支える重要技術である原子層堆積法（ALD：Atomic Layer Deposition）について、その原理から活用例までをわかりやすく解説しています。

＜この動画で分かること＞

・原子一層ずつ薄膜を形成するALDプロセスの仕組み
・微細化が進む半導体分野でALDが不可欠となっている理由
・当社が取り組むALD装置および成膜プロセスの特徴

研究開発に携わる方、装置導入をご検討中の方、技術を学ぶ学生・研究者の皆さまにとって、技術理解の一助となる内容です。

ぜひご覧いただき、今後の技術検討や学習にお役立てください。

こちらのブログ「ALD（原子層堆積）とは？特徴・原理・半導体製造における役割・装置を紹介。」も合わせてご覧ください。

今後も当社は、成膜技術や装置に関する有益なコンテンツを発信してまいります。引き続きご期待ください。