新着動画【5分で理解】半導体の進化を支える精密技術！「ALD（原子層堆積）の歴史」
現代社会に不可欠なスマートフォンやパソコン。その高性能化の鍵を握る最先端技術の一つが、「ALD（原子層堆積法：Atomic Layer Deposition）」です。 ALDは、原子を一層ずつ極めて精密に制御しながら堆積させる技術であり、半導体の微細化・高集積化を根底から支えています。
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粉体への原子層堆積（ALD）技術：次世代高機能材料を創出するコンフォーマルコーティング
粉体への原子層堆積（ALD）技術は、粒子・粉体・多孔質媒体の表面を原子レベルで精密に改質する最先端のナノテクノロジーです。 従来の乾式・湿式成膜法では克服できなかった複雑な表面形状への均一な被覆（コンフォーマル性）を実現し、エネルギー、触媒、医療といった分野のブレークスルーを可能にし
ALD技術が電池を進化させる！寿命改善・安全性向上に繋がる応用メリット
スマートフォンや電気自動車に使われるリチウムイオン電池（LIB）は、より長い寿命、速い充電、高い安全性が求められています。 この課題を解決するため、原子層堆積（ALD）という非常に精密な技術が注目されています。 ALDは、電極材料の表面を原子の層レベルで薄くコーティングすること
半導体製造に欠かせない真空装置の役割。ポンプ選びのポイントまで解説
自社の半導体製造工程において、最適な真空装置が分からず悩んでいませんか？ 専門用語が多く、真空技術がなぜ半導体製造に必要なのか、具体的な関係性がイメージしづらいですよね。 実は、最先端の半導体の性能を決定づけているのは「真空技術」であり、その役割を理解することが最適な装置選定へ
真空装置の仕組みを支える4つの要素。原理とポンプの種類も解説
「真空装置の仕組みについて知りたい」「なんだか複雑でよくわからない・・・」 そうお考えの方も多いのではないでしょうか。 そこで今回は、長年真空装置開発に携わる「菅製作所」が、真空装置がどのような仕組みで成り立っているのかについて、詳しく解説します。 合わせて、装置の心臓部
真空蒸着装置の加熱方式・スパッタリングとの違いも解説
真空蒸着（Vacuum Deposition）は、現代のエレクトロニクス、光学部品、装飾品の製造において、非常に重要な薄膜形成技術の一つです。 材料を加熱・蒸発させ、その分子や原子を基板（ターゲットとなる部品）に付着させて薄膜を作ります。 この技術を支える真空蒸着装置は、どのよ
真空装置を原理・代表的な種類から成膜方法までわかりやすく解説。
現代のエレクトロニクス、特に半導体製造の現場において、「真空」は欠かせない環境です。 真空装置は、この特殊な空間を作り出し、維持することで、原子レベルの精密な加工や薄膜形成（成膜）を可能にしています。 本記事では、「真空」の基本的な定義から、半導体製造に真空が必要な理由、真空装
菅製作所 本社よりお知らせ
現在（2025年7月30日）発生しておりました津波避難のため、電話対応ができない状況となっておりましたが、無事に避難を終え、通常営業を再開いたしました。 皆様にはご迷惑をおかけいたしましたことを深くお詫び申し上げますとともに、ご理解とご協力に感謝申し上げます。
ALD（原子層堆積）の歴史｜半導体技術進化を支えた精密成膜の軌跡
現代のデジタル社会を支える半導体デバイスの進化は、精密な薄膜技術によって推進されてきました。 中でもALD（原子層堆積）は、原子レベルで膜を積み重ねる画期的な手法として、最先端デバイス製造に不可欠です。 本記事では、この精密成膜技術がフィンランドでの誕生から、半導体産業への本格
ALD（原子層堆積法）のプリカーサ（前駆体）とは？
「ALD（原子層堆積法）について調べているけれど、「プリカーサ」という言葉の意味がよくわからない…」「ALDで高品質な薄膜を作るために、プリカーサがなぜ重要なのか知りたい」 もしあなたがそうお考えなら、この記事がその疑問にお答えします。 ALD装置の導入実績が豊富な菅製作所が、
ALD（原子層堆積）の「面内分布」徹底解説：原理・重要性・課題
現代社会を支える半導体デバイスは、さらなる高性能化と微細化が求められています。その中で、原子レベルで極めて精密な薄膜を形成するALD（原子層堆積法）は、半導体製造において非常に重要な技術として注目されています。ALD技術の真価を発揮するために不可欠なのが、「面内分布」という概念です。
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