仕事関数:半導体デバイスの性能を左右する鍵。

仕事関数:半導体デバイスの性能を左右する鍵。
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私たちの身の回りにある電子機器や材料の多くは、その表面で起こる微細な電子の動きによって機能しています。その電子の動きを理解し、制御するために不可欠な概念が「仕事関数」(work function)です。

本記事では、仕事関数の基本的な定義から、光電効果との関係、材料による違い、半導体における重要性、そして測定方法までを解説します。仕事関数を理解することは、現代のテクノロジーを支える材料科学や電子工学の分野において、新たな発見や技術革新へとつながる鍵となるでしょう。

仕事関数の定義

仕事関数とは、固体表面から電子を放出するために必要な最小のエネルギーのことです。光電効果や熱電子放出などの現象を理解する上で重要な概念であり、材料の表面特性を評価する指標としても用いられます。

【仕事関数に影響を与える要因】

  • 結晶構造: 材料の結晶構造によって、仕事関数の値が変化します。
  • 表面状態: 表面の清浄度や吸着物の有無によって、仕事関数が大きく変化します。
  • 温度: 温度が上昇すると、仕事関数がわずかに低下することがあります。

仕事関数と光電効果の関係

光電効果が起こるためには、照射する光のエネルギーが、物質の仕事関数よりも大きくなければなりません。

光のエネルギーが仕事関数よりも小さい場合、光をどれだけ強くしても、電子は放出されません。

光のエネルギーが仕事関数よりも大きい場合、光電子が放出されます。

このとき、光電子の運動エネルギーは、照射した光のエネルギーから仕事関数を差し引いた値になります。

つまり、仕事関数は、光電効果における「閾値エネルギー」として機能します。

仕事関数と材料

仕事関数の値は、材料の種類によって大きく異なります。以下に、代表的な材料の仕事関数の値と、その特徴について説明します。

金属

金属は、一般的に比較的高い仕事関数を持ちます。

  • 金(Au):約5.1 eV
  • 銀(Ag):約4.3 eV
  • 銅(Cu):約4.7 eV
  • 白金(Pt):約5.6 eV

金属の仕事関数は、結晶構造や表面状態によっても変化します。仕事関数の高い金属は、電子を放出しにくいため、電子デバイスの電極材料などに利用されます。

半導体

半導体の仕事関数は、金属と絶縁体の中間の値を示します。

  • シリコン(Si):約4.0〜4.5 eV
  • ゲルマニウム(Ge):約4.8 eV

半導体の仕事関数は、ドーピング(不純物添加)によって制御できます。

  • n型半導体:仕事関数が小さくなる
  • p型半導体:仕事関数が大きくなる

半導体の仕事関数は、半導体デバイスの性能に大きく影響します。

絶縁体

絶縁体は、非常に高い仕事関数を持ちます。

  • 酸化アルミニウム(Al2O3):約7.0 eV

絶縁体は、電子をほとんど放出しないため、絶縁材料として利用されます。

半導体における仕事関数

半導体における仕事関数は、デバイスの性能を左右する重要なパラメータであり、特に金属と半導体の接合において重要な役割を果たします。以下に、半導体における仕事関数の関係性について詳しく説明します。

①金属-半導体接合における仕事関数

【ショットキー接合とオーミック接合】

金属と半導体を接合した際、両者の仕事関数の差によって、接合部にエネルギー障壁が形成されます。

この障壁が高い場合、ショットキー接合となり、ダイオードのような整流特性を示します。

一方、障壁が低い場合、オーミック接合となり、抵抗の少ない良好な電気的接触が得られます。

【デバイス性能への影響】

トランジスタや太陽電池など、多くの半導体デバイスにおいて、電極と半導体間の仕事関数の差がデバイス性能に大きく影響します。

適切な仕事関数を持つ電極材料を選択することで、デバイスの効率や信頼性を向上させることができます。

②半導体表面の特性評価における仕事関数

【表面状態の評価】

仕事関数は、半導体表面の清浄度や吸着物の有無など、表面状態を評価する指標として利用されます。

表面処理や薄膜形成などのプロセスにおいて、仕事関数を測定することで、表面状態を制御し、デバイスの性能を向上させることができます。

【ドーピングとの関係】

半導体に不純物(ドーパント)を添加することで、フェルミ準位を制御し、仕事関数を調整することができます。

n型半導体では、ドーピングによってフェルミ準位が伝導帯に近づき、仕事関数が小さくなります。一方、p型半導体では、フェルミ準位が価電子帯に近づき、仕事関数が大きくなります。

③仕事関数の制御

ドーピング半導体に不純物を添加することで、仕事関数を調整できます。
表面処理半導体表面を化学的または物理的に処理することで、仕事関数を変化させることができます。
材料の選択半導体デバイスの種類や用途に応じて、適切な仕事関数を持つ半導体材料や電極材料を選択することが重要です。

④仕事関数の測定方法

光電子分光法光を照射し、放出される光電子のエネルギーを測定することで、仕事関数を評価します。
ケルビン法異なる材料間の接触電位差を測定することで、仕事関数を評価します。

まとめ

仕事関数は、固体表面から電子を放出するために必要な最小のエネルギーであり、材料の電子特性を理解する上で非常に重要な概念です。

光電効果や半導体デバイスの動作原理を理解する上で不可欠であり、材料の種類や表面状態によってその値が大きく変化します。

また、仕事関数は、光電子分光法やケルビン法などの方法で測定され、材料の表面特性を評価するための重要な指標となります。今後、ナノテクノロジーや材料科学の発展に伴い、仕事関数の理解と制御は、より高度な電子デバイスや新材料の開発に貢献していくでしょう。

【参考】

理研計器株式会社「仕事関数の原理」

セミネット「仕事関数」

応用物理「バイス電極材料と仕事関数」

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この記事を書いた人

株式会社菅製作所

北海道北斗市で、スパッタ装置やALD装置等の成膜装置や光放出電子顕微鏡などの真空装置、放電プラズマ焼結(SPS)による材料合成装置、漁船向け船舶用機器を製造・販売しています。
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