スパッタリング 一覧

小型スパッタ装置とは？特徴・従来型との違いと活用事例について。

現代の科学技術の進歩において、薄膜作製技術は不可欠な役割を果たしています。 特に、スパッタリング技術は、高品質な薄膜を精密に作製できることから、研究開発や産業分野で広く利用されています。 しかし、従来の大型スパッタ装置は、設置場所やコスト、操作性などの面で課題がありました。そこ

続きを読む

薄膜剥離の原因と対策｜防止方法と試験評価のポイント

薄膜コーティング技術は、現代の製造業において、製品の性能向上や耐久性付与に不可欠な役割を果たしています。しかし、薄膜剥離という現象は、その品質を大きく損ない、製品の信頼性を揺るがす深刻な問題です。 スマートフォンや自動車、半導体デバイスなど、私たちの身の回りにある多くの製品が、薄膜コ

続きを読む

スパッタリングとは？基礎的内容をわかりやすく解説！

「スパッタリングは専門用語が多すぎて難しい」 「結局どの装置を選べば良いのかわからない」 上記のようなお悩みは、スパッタ装置を検討する際によくある悩みだと思います。 そこで本記事ではスパッタ装置を製造するメーカー「菅製作所」が、スパッタリングについてわかりやすく解説します

続きを読む

小型の研究開発機器「卓上スパッタ装置」を使用する3つのメリット【菅製作所】

研究開発機器として幅広く使用されているスパッタ装置。 スパッタ装置とは、イオン化させたArガスを高速でターゲットに衝突させ、衝突により叩き出されたターゲット原子が基板に付着するスパッタリング現象を利用したPVD方式の薄膜形成装置です。 そんなスパッタ装置ですが、手

続きを読む

スパッタ装置の代表的な5つの方式とは？原理や用途を紹介！

スパッタ装置は、Arイオンをプラズマ放電下でターゲットに衝突させ、衝突により叩き出されたターゲット材料が対向する基板に付着するスパッタリング現象を利用した成膜装置です。 しかし、スパッタ装置と一言に言ってもいくつかの方式があります。 今回は代表的な5つの方式をご紹介します。 無電極誘導放電

続きを読む

高膜質が可能なスパッタ装置とは？用途別に5種類の特徴解説

スパッタ装置とはスパッタリング現象を採用している装置です。Arイオンをプラズマ放電下でターゲットに衝突させ、それによって叩き出されたターゲット材料がスパッタリング現象によって成膜されます。 現在は、金属膜、絶縁膜、電導膜、保護膜、反射膜、触媒、コーティング、回路、電池、MEMS、新素

続きを読む

スパッタ装置とは？菅製作所SSP3000Plusの性能や特徴を紹介

スパッタ装置は、真空薄膜形成のカテゴリの中では物理蒸着法（PVD）に分類されるスパッタリング法を用いた成膜装置です。 スパッタ装置により生成される薄膜は、基板への優れた密着性、繰返し成膜する時の高い再現性、高融点材料や合金も作れる特徴を有しており、半導体や電子デバイスをはじめ機能性材

続きを読む

スパッタ装置とは？菅製作所SSP3000の性能や特徴を紹介

スパッタ装置は、真空薄膜形成のカテゴリの中では物理蒸着法（PVD）に分類されるスパッタリング法を用いた成膜装置です。 スパッタ装置により生成される薄膜は、基板への優れた密着性、繰返し成膜する時の高い再現性、高融点材料や合金も作れる特徴を有しており、半導体や電子デバイスをはじめ機能性材

続きを読む

物理蒸着法（PVD）の、スパッタ装置とは？菅製作所SSP2500Gの性能や特徴を紹介

スパッタ装置は、真空薄膜形成のカテゴリの中では物理蒸着法（PVD）に分類されるスパッタリング法を用いた成膜装置です。 スパッタ装置により生成される薄膜は、基板への優れた密着性、繰返し成膜する時の高い再現性、高融点材料や合金も作れる特徴を有しており、半導体や電子デバイスをはじめ機能性材

続きを読む

金属膜、絶縁膜はもちろん、酸化膜、窒化膜を生成するスパッタ装置とは？菅製作所SSP20…

スパッタ装置は、真空薄膜形成のカテゴリの中では物理蒸着法（PVD）に分類されるスパッタリング法を用いた成膜装置です。 スパッタ装置により生成される薄膜は、基板への優れた密着性、繰返し成膜する時の高い再現性、高融点材料や合金も作れる特徴を有しており、半導体や電子デバイスをはじ

続きを読む

小型の物理蒸着法（PVD）のスパッタ装置とは？菅製作所SSP1000の性能や特徴を紹介

スパッタ装置は、真空薄膜形成のカテゴリの中では物理蒸着法（PVD）に分類されるスパッタリング法を用いた成膜装置です。 スパッタ装置により生成される薄膜は、基板への優れた密着性、繰返し成膜する時の高い再現性、高融点材料や合金も作れる特徴を有しており、半導体や電子デバイスをはじめ

続きを読む

1 2