真空装置 一覧

【新着動画】「真空ポンプの種類と選び方|メリット・デメリットを徹底解説」

菅製作所のYouTubeチャンネルにて、新作動画「真空ポンプの種類と選び方|メリット・デメリットを徹底解説」を公開しました。 真空をつくり出す上で欠かせない「真空ポンプ」ですが、その種類や到達できる真空度は大きく異なります。 本動画では、大気圧から真空を作る「粗引きポンプ」から、さらに

続きを読む

【新着動画】スパッタ装置の電源の基本!これであなたもスパッタマスター

菅製作所のYouTubeチャンネルにて、新作動画「スパッタ装置の電源の基本!これであなたもスパッタマスター」を公開しました。本動画では、スパッタ装置に欠かせない「電源」の役割と種類について、初心者の方にもわかりやすく解説しています。 「DCとRFの違いは?」「どの材料にどの電源が適しているの

続きを読む

半導体製造に欠かせない真空装置の役割。ポンプ選びのポイントまで解説

自社の半導体製造工程において、最適な真空装置が分からず悩んでいませんか? 専門用語が多く、真空技術がなぜ半導体製造に必要なのか、具体的な関係性がイメージしづらいですよね。 実は、最先端の半導体の性能を決定づけているのは「真空技術」であり、その役割を理解することが最適な装置選定へ

続きを読む

真空装置の仕組みを支える4つの要素。原理とポンプの種類も解説

「真空装置の仕組みについて知りたい」「なんだか複雑でよくわからない・・・」 そうお考えの方も多いのではないでしょうか。 そこで今回は、長年真空装置開発に携わる「菅製作所」が、真空装置がどのような仕組みで成り立っているのかについて、詳しく解説します。 合わせて、装置の心臓部

続きを読む

真空蒸着装置の加熱方式・スパッタリングとの違いも解説

真空蒸着(Vacuum Deposition)は、現代のエレクトロニクス、光学部品、装飾品の製造において、非常に重要な薄膜形成技術の一つです。 材料を加熱・蒸発させ、その分子や原子を基板(ターゲットとなる部品)に付着させて薄膜を作ります。 この技術を支える真空蒸着装置は、どのよ

続きを読む

真空装置を原理・代表的な種類から成膜方法までわかりやすく解説。

現代のエレクトロニクス、特に半導体製造の現場において、「真空」は欠かせない環境です。 真空装置は、この特殊な空間を作り出し、維持することで、原子レベルの精密な加工や薄膜形成(成膜)を可能にしています。 本記事では、「真空」の基本的な定義から、半導体製造に真空が必要な理由、真空装

続きを読む

【新着動画】酸化シリコン失敗成膜大公開!失敗から学ぶ原因と修正点

菅製作所のYouTubeチャンネルにて、「酸化シリコン失敗成膜大公開!失敗から学ぶ原因と修正点」と題した新作技術解説動画を公開いたしました。 本動画では、当社のスパッタリング装置による酸化シリコン(SiO₂)成膜プロセスにおいて、実際に発生した失敗事例を通じて、失敗の原因とそこから得られる教

続きを読む

【新着動画】真空装置の「オイルバック」を防ぐ!電磁ロータリーポンプバルブ

この度、菅製作所のYouTubeチャンネルに、真空システムの安全を守る電磁ロータリーポンプバルブの解説動画を公開しました。 高価な真空チャンバーや研究結果に悪影響を及ぼす「オイルバック」(ポンプの潤滑油逆流)現象。特に停電時には発生リスクが高まります。 この動画では、当社の電磁ロータリ

続きを読む

【YouTube更新】スパッタ成膜タイムアタック ~酸化シリコン最高レートへの挑戦~

酸化シリコン(SiO₂)成膜の“実際にかかる時間”を計測する「成膜タイムアタック」動画を公開しました。今回の動画では、当社製スパッタ装置「SSP1000キュービックスパッタ装置」を使用し、成膜開始から終了までの一連の流れをご紹介しています。チャンバーの真空引き、出力調整、成膜、ベント、基板取り出し

続きを読む

ALD(原子層堆積)の歴史|半導体技術進化を支えた精密成膜の軌跡

現代のデジタル社会を支える半導体デバイスの進化は、精密な薄膜技術によって推進されてきました。 中でもALD(原子層堆積)は、原子レベルで膜を積み重ねる画期的な手法として、最先端デバイス製造に不可欠です。 本記事では、この精密成膜技術がフィンランドでの誕生から、半導体産業への本格

続きを読む

ALD(原子層堆積法)のプリカーサ(前駆体)とは?

「ALD(原子層堆積法)について調べているけれど、「プリカーサ」という言葉の意味がよくわからない…」「ALDで高品質な薄膜を作るために、プリカーサがなぜ重要なのか知りたい」 もしあなたがそうお考えなら、この記事がその疑問にお答えします。 ALD装置の導入実績が豊富な菅製作所が、

続きを読む

ALD(原子層堆積)の「面内分布」徹底解説:原理・重要性・課題

現代社会を支える半導体デバイスは、さらなる高性能化と微細化が求められています。その中で、原子レベルで極めて精密な薄膜を形成するALD(原子層堆積法)は、半導体製造において非常に重要な技術として注目されています。ALD技術の真価を発揮するために不可欠なのが、「面内分布」という概念です。

続きを読む

1 2 3 4