真空機器 一覧

宇宙の真空・熱環境を地上で再現する菅製作所の【Φ1mスペースチャンバー】

菅製作所の【Φ1mスペースチャンバー】の製品情報について 航空宇宙産業は関連技術分野が広く、日本の技術が活きる産業です。その中でも超小型衛星の研究が進み、 小型化や軽量化を図るための新素材、センサー、搭載機器などの開発技術がますます必要とされています。 スペースチャンバーは衛星

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菅製作所の光放出電子顕微鏡【MyPEEM】の性能や特徴を紹介

光放出電子顕微鏡(MyPEEM)は、紫外光などの短波長の光を照射し、サンプルから放出される光電子を検出することで、サンプル表面の仕事関数をリアルタイムで可視化することができる顕微鏡です。 表面仕事関数を可視化し、リアルタイムで対象を観察することができます。主な用途として、薄

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【完全版】確かな実績と信頼。研究開発におすすめの真空装置8種類の概要や用途を紹介【菅製…

真空装置とは、真空の状態を利用した装置を指しており、目的に応じて真空システムを設定し作業をおこないます。昨今の産業の発展、そして様々な用途、研究においてなくてはならない装置の一つです。 そこで、今回は真空装置を取り扱う菅製作所の真空装置8種類と、全17機をご紹介いたします。

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小型の研究開発機器「卓上スパッタ装置」を使用する3つのメリット【菅製作所】

研究開発機器として幅広く使用されているスパッタ装置。 スパッタ装置とは、イオン化させたArガスを高速でターゲットに衝突させ、衝突により叩き出されたターゲット原子が基板に付着するスパッタリング現象を利用したPVD方式の薄膜形成装置です。 そんなスパッタ装置ですが、手

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成膜後の膜質改善するアニール装置とは?原理や特徴を解説!

アニール装置は、基板への高温熱処理やガス置換、プラズマ処理加工が可能な装置です。スパッタ装置で成膜した後の膜質改善用途として非常に重要な役目を果たします。 今回は、菅製作所が製造するアニール装置2種類を解説していきます。 1946年に漁船用機器の修理業で創業した菅製作所では真空装置・真空機器

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スパッタ装置の代表的な5つの方式とは?原理や用途を紹介!

スパッタ装置は、Arイオンをプラズマ放電下でターゲットに衝突させ、衝突により叩き出されたターゲット材料が対向する基板に付着するスパッタリング現象を利用した成膜装置です。 しかし、スパッタ装置と一言に言ってもいくつかの方式があります。 今回は代表的な5つの方式をご紹介します。 無電極誘導放電

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高成膜可能なALD装置まとめ5選!用途や特徴も解説

北海道函館市近くの北斗市にある菅製作所は1946年に漁船用機器の修理業で創業し、その後さらなる発展、向上を目指し真空装置、真空機器の製造もおこなってまいりました。 その中で、今回は菅製作所のALD装置をご紹介します。 ALD装置とは、原子層1層枚の均一なコントロールを行い、高膜質・段差被膜性

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高膜質が可能なスパッタ装置とは?用途別に5種類の特徴解説

スパッタ装置とはスパッタリング現象を採用している装置です。Arイオンをプラズマ放電下でターゲットに衝突させ、それによって叩き出されたターゲット材料がスパッタリング現象によって成膜されます。 現在は、金属膜、絶縁膜、電導膜、保護膜、反射膜、触媒、コーティング、回路、電池、MEMS、新素材開発などの多

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【一覧】真空装置の種類は5つ!人気のおすすめ10選も紹介

真空装置は研究開発用途として多く使われており、その中でも種類によって使用方法は変わります。 今回は、真空装置の種類5つと、その中から厳選した真空装置10台をご紹介します。 1946年に創業した菅製作所は、自社製スパッタ装置の販売、大学や研究機関を中心に活動の幅を拡げております。そんな菅製作所

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スパッタ装置とは?菅製作所SSP3000Plusの性能や特徴を紹介

スパッタ装置は、真空薄膜形成のカテゴリの中では物理蒸着法(PVD)に分類されるスパッタリング法を用いた成膜装置です。 スパッタ装置により生成される薄膜は、基板への優れた密着性、繰返し成膜する時の高い再現性、高融点材料や合金も作れる特徴を有しており、半導体や電子デバイスをはじめ機能性材

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スパッタ装置とは?菅製作所SSP3000の性能や特徴を紹介

スパッタ装置は、真空薄膜形成のカテゴリの中では物理蒸着法(PVD)に分類されるスパッタリング法を用いた成膜装置です。 スパッタ装置により生成される薄膜は、基板への優れた密着性、繰返し成膜する時の高い再現性、高融点材料や合金も作れる特徴を有しており、半導体や電子デバイスをはじめ機能性材

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物理蒸着法(PVD)の、スパッタ装置とは?菅製作所SSP2500Gの性能や特徴を紹介

スパッタ装置は、真空薄膜形成のカテゴリの中では物理蒸着法(PVD)に分類されるスパッタリング法を用いた成膜装置です。 スパッタ装置により生成される薄膜は、基板への優れた密着性、繰返し成膜する時の高い再現性、高融点材料や合金も作れる特徴を有しており、半導体や電子デバイスをはじ

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