ALD装置(原子層堆積装置) 製品一覧

原子層1層枚の均一なコントロールを行い、高膜質・段差被膜性の高い成膜が可能な、研究開発用の小型原子層堆積装置です。

  • SAL1000B

    粉体・固形粒子への全周囲成膜を可能にした卓上型ALD

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  • SAL1000G

    グローブボックス付きの卓上型ALD、粉体への成膜にも対応

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  • SAL3000

    デポ方向、グローブボックス、ロードロック室の選択が可能

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  • SAL3000Plus

    拡張可能型のALD、デポ方向選択可、基板加熱MAX800℃

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