研究開発支援機器 製品一覧

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  SAL3000Plus

  拡張可能型のALD、デポ方向選択可、基板加熱MAX800℃

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  SAN1000

  基板への高温加熱処理(アニール)や不活性ガス導入による熱処理時の圧力コントロールが可能

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  SAN2000Plus

  MAX1000℃の温度制御やRF電源搭載が可能、拡張可能型装置に接続できる

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  SEV2000Plus

  金属膜又は酸化膜等を成膜することを目的とした真空蒸着装置です。
  

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  STR2000

  PLUSシリーズ3台までと連結できる省スペースの自動基板搬送アーム

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  SAF3000

  炉芯管内の正確な温度制御、圧力制御、水蒸気導入、急冷に対応

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  スペースチャンバー

  液体窒素循環式シュラウドや多数の導入ポートを搭載

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  SWE1000

  スプレーによる噴霧で薬液・純水・窒素を導入、レシピ作成可能

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  電磁ロータリーポンプバルブ

  自社製造のアイソレーションバルブ、NW25とNW40に対応

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  真空チャンバー

  ステンレス、アルミどちらも製作可能です。詳細はお問合せください。

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  JIS真空フランジ

  自社で加工したJIS規格対応の真空フランジ、VG/VFがあります。

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  真空継手

  真空フランジにパイプや接手を溶接。特注品も製作します。

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