「北海道次世代半導体フェア in エスコンフィールドHOKKAIDO」に出展しました。
「北海道次世代半導体フェア in エスコンフィールドHOKKAIDO」に出展し、当社の概要や募集人材についてご紹介させていただきました。 ご来場いただいた皆様、誠にありがとうございました。
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この度、皆様により便利なサービスを提供するため、メールサービスを開設いたしました。 研究開発をサポートする製品や技術に関する最新情報をお届けするメールサービスとなっており、ご登録いただくと、以下のような情報をお知らせいたします。 最新の製品紹介:スパッタ装置やALD装置など研究開発の
株式会社菅製作所では、下記の期間を年末年始の休業日とさせていただきます。皆様には大変ご迷惑をおかけいたしますが、ご了承いただきますようお願い申し上げます。2025年1月6日(月)より、通常営業を開始いたします。 2024年12月28日(土)〜2025年1月5日(日)休業
インピーダンス(impedance)は、電気回路の設計や解析において非常に重要な概念です。抵抗、リアクタンス、そしてそれらを組み合わせたインピーダンスを理解することで、回路の動作をより深く理解し、効率的な回路設計を行うことができます。 特に、現代の電子機器は高度化しており、より高周波
コーティング加工は製品の機能性を高めたり、機能を長く保持させたりする役割を持っています。製品の外側・内側には多くのコーティング技術が使われています。そのなかの代表例が「蒸着」です。 この記事では、スパッタ装置をはじめとする成膜装置を製作する菅製作所が、成膜の基本である「蒸着」の基本的
コイルといえば、電磁石を思い浮かべる人も多いでしょう。しかし、コイルには様々な種類があり、その一つに「空芯コイル」があります。 わたしたち菅製作所は、スパッタ装置と呼ばれる装置を製作しているのですが、RFスパッタ装置では空芯コイルが用いられています。 空芯コイルとは、内部に鉄心
スポンサーとして「The 5th International Workshop on Spark Plasma Sintering」に参加します。 欧州代理店Kagaku Analys ABが現地で展示ブースを準備しておりますのでお気軽にお立ち寄りください。 開催地:University of T
北海道が企画した北海道内の高校生を対象とした半導体に関する出前講座にて、弊社 営業部の工藤が講師を務めました。 半導体の製造方法および薄膜の基礎を講義しました。 日時:令和6年10月23日(水)8:50~9:40 場所:北海道函館工業高等学校(函館市川原町5−13) 対象:2年生(電気情報工学科
「北海道次世代半導体フェア in エスコンフィールドHOKKAIDO」に出展します。 当社は研究開発用の小型原子層堆積装置「デスクトップ型ALD装置 SAL1000」の展示を行います。 皆様のご来場をお待ちしております! 会場:エスコンフィールドHOKKAIDO 1F F NEOBANK
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メールサービス登録のご案内 当社では、研究開発をサポートする製品や技術に関する最新情報をお届けするメールサービスを配信しています。ご登録いただくと、以下のような情報をお知らせいたします。 最新の製品紹介:スパッタ装置やALD装置など研究開発の現場で役立つ新製品や機能の詳細 展示会のご案内:当社が出
ナノの世界を自在に操る、ALD装置。 半導体デバイスがますます高性能化していく中、より微細な構造が求められています。ALD装置は、そんなニーズに応えるべく誕生しました。原子1層ずつ丁寧に膜を成長させることで、従来の技術では不可能だった高密度かつ均一な膜を実現。最先端技術を支える重要な装置です。
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