ALD 一覧

現代のデジタル社会を支える半導体デバイスの進化は、精密な薄膜技術によって推進されてきました。中でもALD（原子層堆積）は、原子レベルで膜を積み重ねる画期的な手法として、最先端デバイス製造に不可欠です。本記事では、この精密成膜技術がフィンランドでの誕生から、半導体産業への本格

「ALD（原子層堆積法）について調べているけれど、「プリカーサ」という言葉の意味がよくわからない…」「ALDで高品質な薄膜を作るために、プリカーサがなぜ重要なのか知りたい」もしあなたがそうお考えなら、この記事がその疑問にお答えします。 ALD装置の導入実績が豊富な菅製作所が、

現代の電子機器が小型化・高性能化を遂げる中で、半導体デバイスの微細加工技術はますます重要性を増しています。その最前線で注目を集めるのが、原子層堆積（ALD）と呼ばれる革新的な薄膜形成技術です。ALDは、膜を原子1層ずつ積み重ねていくことで、従来の成膜技術では困難だった極めて精密で均

いつも菅製作所のウェブサイトをご覧いただき、誠にありがとうございます。この度、ALD装置をご利用のお客様からよくお問い合わせいただくトラブルとその対策について、詳しく解説した動画を公開いたしました。動画では、以下の主要なトラブルと、それぞれの具体的な解決策をご紹介しております。【到達真空度

北海道函館市近くの北斗市にある菅製作所は1946年に漁船用機器の修理業で創業し、その後さらなる発展、向上を目指し真空装置、真空機器の製造もおこなってまいりました。その中で、今回は菅製作所のALD装置をご紹介します。 ALD装置とは、原子層１層枚の均一なコントロールを行い、高膜質・段差被膜性

製品・サービスに関するお問い合せ

050-3734-0730

電話受付時間
8:30～17:00
（定休：土日祝）