SPS/FAST Experts Workshop 2026 March 19 - 2…
パートナーであるCalifornia Nanotechnologies Inc.がTMS2026と連携してSPS/FASTワークショップを開催することになりました。 彼らのファクトリーツアーも企画されており、実際に私たちのSPS2000を見学していただける良い機会ですので是非ご参加ください。
パートナーであるCalifornia Nanotechnologies Inc.がTMS2026と連携してSPS/FASTワークショップを開催することになりました。 彼らのファクトリーツアーも企画されており、実際に私たちのSPS2000を見学していただける良い機会ですので是非ご参加ください。
本動画では、原子層堆積法(ALD)によって材料表面の濡れ性を制御する技術──親水性と疎水性のコントロール──について、基礎からわかりやすく解説しています。 <この動画で分かること> ・親水性/疎水性とは何か、その違いと意味・ALD成膜プロセスが表面の性質にどのように影響するのか・ALD
明けましておめでとうございます 本年もお客様のお役に立てるよう活動いたします 実験の幅を広げる装置複合化が注目されています!Plusシリーズのご紹介 Plusシリーズ装置同士の連結が可能です STR2000が装置間の基板搬送を担います 複合化により、幅広い実
本動画では、原子層堆積法(ALD)が二次電池分野にもたらす革新的な効果について、わかりやすく解説しています。 <この動画で分かること> ・ALD技術が電池性能にどのように寄与するのか・電池の寿命改善や安全性向上につながるメカニズム・正負極・電解質界面におけるALDの役割・実用化に向けた
半導体製造はますます精密さが求められ、ほんのわずかな塵や水分が歩留まりを左右する繊細な工程です。 その「高精度」な工程を実現するためにあるのが、真空チャンバーです。 薄膜形成、エッチング、露光など、主要な半導体プロセスの多くは「真空環境がなければ成り立たない」と言われるほど、真
このたび、菅製作所の公式YouTubeチャンネルのチャンネル登録者数が200人を突破いたしました。 これもひとえに、日頃より動画をご覧いただき、ご登録・高評価・コメントをお寄せくださっている皆さまの温かいご支援のおかげです。心より感謝申し上げます。 今後も、皆さまに価値ある情報・技術解
半導体の微細化が進む今、回路の形状を精密に作るために欠かせないのがエッチング工程です。 ウエハーに成膜された材料を、必要な部分だけ正確に残し、不要な部分を削り取るこのプロセスは、デバイス性能を左右する重要なステップです。 本記事では、エッチングの基礎から、2つの手法による違い、
このたびの北海道・三陸沖を震源とする地震により、被災された皆さまに心よりお見舞い申し上げます。 皆さまの安全と、一日も早い復旧・復興をお祈りいたします。 なお、北海道北斗市にございます弊社 本社および工場につきましては、幸いにも大きな被害はなく、通常通り営業を行っております。 被災地域の皆さ
半導体の性能を決める“心臓部”ともいえる工程が、ウエハー内部へ不純物(ドーパント)を精密に注入する「イオン注入」です。 トランジスタのしきい値電圧やスイッチング速度など、デバイスの動作を左右する重要な特性は、この工程の精度によって大きく変わります。 イオンを電場で加速し、狙った
平素より格別のご愛顧を賜り、厚く御礼申し上げます。 株式会社菅製作所は、永年にわたりご提供してまいりましたROM書込み事業を、2025年12月20日をもちまして終業することとなりました。 これまで多くのお客様にお引き立てを賜りましたこと、心より感謝申し上げます。 皆様からのご支援
本動画では、半導体の高精度・高信頼性を左右する膜厚の均一性──特に「面内分布(膜の厚みムラ)」の重要性に焦点を当て、なぜこのムラが問題となるのか、その原因と対策を詳しく説明しています。 <この動画で分かること> ・面内分布とは何か、なぜ半導体製造で課題となるのか・膜厚ムラがデバイス性能
電子を加速させて気体分子を電離し、その電流から圧力を求める冷陰極電離真空計。 機械的な構造が少なく、広い圧力範囲をカバーできる点で多くの研究現場や真空装置に利用されています。 本記事では、冷陰極電離真空計の原理・構造・測定の仕組みをわかりやすく解説。 さらに、扱う際の注意
© 2026 Suga All Rights Reserved.