北海道函館市近くの北斗市にある菅製作所は1946年に漁船用機器の修理業で創業し、その後さらなる発展、向上を目指し真空装置、真空機器の製造もおこなってまいりました。
その中で、今回は菅製作所のALD装置をご紹介します。
ALD装置とは、原子層１層枚の均一なコントロールを行い、高膜質・段差被膜性の高い成膜が可能な、研究開発用の小型原子層堆積装置です。
特徴や用途をまとめておりますので、是非参考にしてみてください。
目次
①手軽に1原子層ずつの薄膜をつくれるSAL1000（デスクトップ型ALD装置）
ALD装置は1原子層毎の精密な堆積制御を実現し、均一で凹凸部に対しても段差被覆性に優れた薄膜成形成を可能にする原子層堆積装置(ALD=Atomic Layer Deposition)です。
特徴
- 基板表面に1原子層ずつ均一でピンホールフリーのレイヤー成膜が可能です。
- シンプルで簡単なハード系操作。廃棄操作用のボタンとガス流出調整用バルブもフロントパネルに配置しています。
- タッチパネルのソフトウェアは成膜時の状態を認識しやすい画面レイアウトを設計しました。
用途
研究開発用のALD装置（原子層堆積装置）です。
②粉体への全周囲成膜を可能にしたSAL1000B（粉体成膜用ALD装置）
前駆体と呼ばれるプリカーサボトルに入れた原料を成膜材料として、水やオゾンとの表面化学反応により酸化膜(AL2O3、HfO2、SiO2、TiO2)の成膜をすることができます。
特徴
- 段差被覆性に優れていますので、凹凸表面形状や三次元形状への成膜に適しています。
- タッチパネルのソフトウェアは成膜時の状態を認識しやすい画面レイアウトを設計しました。
- 粉体の成膜を効率良く行うため傾斜フレームの調整により最大45°前傾させた状態で成膜をすることができます。
用途
卓上型の研究開発用。粉体への全周囲成膜を可能としたことにより、粉体や粒状の材料に関わる分野で新素材の開発などに活躍します。
➂SAL1000G（グローブボックス付きALD装置）
卓上型ALDにグローブボックスを装備し、酸化や大気と反応する嫌気性の材料を用いた成膜ニーズに対応するモデルです。
特徴
- 卓上型ALDに真空排気や窒素ベントが可能なアクリル製のグローブボックスを搭載しました。
- 4インチのまでのウエハー形状に成膜可能。MAX350℃の加熱機構も備え、AL2O3でのテストでは、Φ100mm以内3%以下の膜厚分布性能を有しています。
- 卓上型の装置として、簡単に場所を動かせることを重視し、本体に大型のハンドルを付けました。
用途
研究開発用の卓上型ALD装置（原子層堆積装置）です。
④小型で機能充実のSAL3000（ALD装置）
従来からあるデポダウン方式の仕様に加え、基板へのパーティクル付着をより低減できる「デポアップ」タイプをご用意しております。
特徴
- 基板サイズφ100mm以内に対し、±3%の膜厚分布の性能で、均一でピンホールフリーのレイヤー成膜が可能です。
- デポダウン(基板フェースアップ)のSAL3000Dと、デポアップ(基板フェースダウン)のSAL3000Uのいずれかの仕様を選べます。
- タッチパネルを仰角に配置し、視認性と操作性に配慮した設計にしています。
用途
研究開発用のALD装置（原子層堆積装置）です。
⑤小型・他装置との複合化で幅広い実験に対応するSAL3000Plus（拡張可能型ALD装置）
ALD装置は1原子層毎の精密な堆積制御を実現し、均一で凹凸部に対しても段差被覆性に優れた薄膜成形成を可能にする原子層堆積装置(ALD=Atomic Layer Deposition)です。
特徴
- 段差被覆性に優れていますので、凹凸表面形状や三次元形状への成膜に適している高品質な成膜分布です。
- SAL3000Plusはデポダウン(基板フェースアップ)のSAL3000＋Dと、デポアップ(基板フェースダウン)のSAL3000＋Uのいずれかの仕様を選べます。
- 本体側面に拡張用ポートを備えており、トランスファーユニットSTR2000と連結することで、ロードロック機能を備えることができます。
用途
前駆体と呼ばれるプリカーサボトルに入れた原料を成膜材料として、水やオゾンとの表面化学反応により酸化膜(AL2O3、HfO2、SiO2、TiO2)の成膜をすることができる、研究開発用のALD装置（原子層堆積装置）です。
まとめ
真空装置を製造している菅製作所では、こちらで紹介したALD装置はもちろん、空装置として成膜後の膜質改善用途に、アニール装置も製造しております。
サービスや修理・改造などのサポートもおこなっておりますのでご希望の方はお問い合わせください。
株式会社菅製作所
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