半導体製造に欠かせない真空装置の役割。ポンプ選びのポイントまで解説
自社の半導体製造工程において、最適な真空装置が分からず悩んでいませんか？ 専門用語が多く、真空技術がなぜ半導体製造に必要なのか、具体的な関係性がイメージしづらいですよね。 実は、最先端の半導体の性能を決定づけているのは「真空技術」であり、その役割を理解することが最適な装置選定へ
“スパッタリング”の検索結果
真空蒸着装置の加熱方式・スパッタリングとの違いも解説
真空蒸着（Vacuum Deposition）は、現代のエレクトロニクス、光学部品、装飾品の製造において、非常に重要な薄膜形成技術の一つです。 材料を加熱・蒸発させ、その分子や原子を基板（ターゲットとなる部品）に付着させて薄膜を作ります。 この技術を支える真空蒸着装置は、どのよ
真空装置を原理・代表的な種類から成膜方法までわかりやすく解説。
現代のエレクトロニクス、特に半導体製造の現場において、「真空」は欠かせない環境です。 真空装置は、この特殊な空間を作り出し、維持することで、原子レベルの精密な加工や薄膜形成（成膜）を可能にしています。 本記事では、「真空」の基本的な定義から、半導体製造に真空が必要な理由、真空装
【新着動画】酸化シリコン失敗成膜大公開！失敗から学ぶ原因と修正点
菅製作所のYouTubeチャンネルにて、「酸化シリコン失敗成膜大公開！失敗から学ぶ原因と修正点」と題した新作技術解説動画を公開いたしました。 本動画では、当社のスパッタリング装置による酸化シリコン（SiO₂）成膜プロセスにおいて、実際に発生した失敗事例を通じて、失敗の原因とそこから得られる教
ALD（原子層堆積）の歴史｜半導体技術進化を支えた精密成膜の軌跡
現代のデジタル社会を支える半導体デバイスの進化は、精密な薄膜技術によって推進されてきました。 中でもALD（原子層堆積）は、原子レベルで膜を積み重ねる画期的な手法として、最先端デバイス製造に不可欠です。 本記事では、この精密成膜技術がフィンランドでの誕生から、半導体産業への本格
ALD（原子層堆積）の「面内分布」徹底解説：原理・重要性・課題
現代社会を支える半導体デバイスは、さらなる高性能化と微細化が求められています。その中で、原子レベルで極めて精密な薄膜を形成するALD（原子層堆積法）は、半導体製造において非常に重要な技術として注目されています。ALD技術の真価を発揮するために不可欠なのが、「面内分布」という概念です。
ALD（原子層堆積）とは？特徴・原理・半導体製造における役割・装置を紹介。
現代の電子機器が小型化・高性能化を遂げる中で、半導体デバイスの微細加工技術はますます重要性を増しています。 その最前線で注目を集めるのが、原子層堆積（ALD）と呼ばれる革新的な薄膜形成技術です。ALDは、膜を原子1層ずつ積み重ねていくことで、従来の成膜技術では困難だった極めて精密で均
真空度とは？定義・単位・測定方法について
私たちの身の回りには、意識せずとも多くの真空技術が活用されています。スマートフォンやパソコンの心臓部である半導体の製造から、食品のフリーズドライ、さらには最先端の科学実験まで、多岐にわたる分野で「真空」が重要な役割を担っているのです。 しかし、「真空」とは一体何でしょうか？そして、そ
ピラニ真空計とは？原理・構造・使い方について
真空技術が不可欠な現代産業において、真空度の正確な測定はプロセスの成否を左右します。中でも「ピラニ真空計」は、その手軽さと信頼性から多くの現場で活躍する主要な真空計です。 しかし、この計器がどのような原理で機能し、どのように読み取るべきかを深く理解していなければ、誤った判断からプロセ
真空バルブの仕組みとは？研究開発を加速する選定・運用方法を徹底解説
半導体製造、FPD（フラットパネルディスプレイ）製造、医療機器、分析機器、宇宙開発など、現代社会を支える最先端の研究開発や産業プロセスにおいて、真空技術は不可欠な基盤です。そして、その高性能な真空システムの中核を担うのが、真空バルブに他なりません。 真空バルブは、ガス流の精密な制御を
小型スパッタ装置とは？特徴・従来型との違いと活用事例について。
現代の科学技術の進歩において、薄膜作製技術は不可欠な役割を果たしています。 特に、スパッタリング技術は、高品質な薄膜を精密に作製できることから、研究開発や産業分野で広く利用されています。 しかし、従来の大型スパッタ装置は、設置場所やコスト、操作性などの面で課題がありました。そこ
粉体スパッタリングとは？：基礎原理から最新応用まで徹底解説粉体
従来の薄膜形成技術の常識を覆す、画期的な先端技術である粉体スパッタリングをご存知でしょうか。 この技術は、真空中でプラズマを生成し、その力を利用して、目に見えないほど微細な粉体の一粒一粒に、極めて薄い膜を均一に形成することを可能にします。 これにより、粉体材料に新たな機能を付与
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