粉体への原子層堆積（ALD）技術：次世代高機能材料を創出するコンフォーマルコーティング
粉体への原子層堆積（ALD）技術は、粒子・粉体・多孔質媒体の表面を原子レベルで精密に改質する最先端のナノテクノロジーです。 従来の乾式・湿式成膜法では克服できなかった複雑な表面形状への均一な被覆（コンフォーマル性）を実現し、エネルギー、触媒、医療といった分野のブレークスルーを可能にし
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【新着動画】スパッタ装置の電源の基本！これであなたもスパッタマスター
菅製作所のYouTubeチャンネルにて、新作動画「スパッタ装置の電源の基本！これであなたもスパッタマスター」を公開しました。本動画では、スパッタ装置に欠かせない「電源」の役割と種類について、初心者の方にもわかりやすく解説しています。 「DCとRFの違いは？」「どの材料にどの電源が適しているの
半導体製造に欠かせない真空装置の役割。ポンプ選びのポイントまで解説
自社の半導体製造工程において、最適な真空装置が分からず悩んでいませんか？ 専門用語が多く、真空技術がなぜ半導体製造に必要なのか、具体的な関係性がイメージしづらいですよね。 実は、最先端の半導体の性能を決定づけているのは「真空技術」であり、その役割を理解することが最適な装置選定へ
真空装置の仕組みを支える4つの要素。原理とポンプの種類も解説
「真空装置の仕組みについて知りたい」「なんだか複雑でよくわからない・・・」 そうお考えの方も多いのではないでしょうか。 そこで今回は、長年真空装置開発に携わる「菅製作所」が、真空装置がどのような仕組みで成り立っているのかについて、詳しく解説します。 合わせて、装置の心臓部
真空蒸着装置の加熱方式・スパッタリングとの違いも解説
真空蒸着（Vacuum Deposition）は、現代のエレクトロニクス、光学部品、装飾品の製造において、非常に重要な薄膜形成技術の一つです。 材料を加熱・蒸発させ、その分子や原子を基板（ターゲットとなる部品）に付着させて薄膜を作ります。 この技術を支える真空蒸着装置は、どのよ
真空装置を原理・代表的な種類から成膜方法までわかりやすく解説。
現代のエレクトロニクス、特に半導体製造の現場において、「真空」は欠かせない環境です。 真空装置は、この特殊な空間を作り出し、維持することで、原子レベルの精密な加工や薄膜形成（成膜）を可能にしています。 本記事では、「真空」の基本的な定義から、半導体製造に真空が必要な理由、真空装
【新着動画】酸化シリコン失敗成膜大公開！失敗から学ぶ原因と修正点
菅製作所のYouTubeチャンネルにて、「酸化シリコン失敗成膜大公開！失敗から学ぶ原因と修正点」と題した新作技術解説動画を公開いたしました。 本動画では、当社のスパッタリング装置による酸化シリコン（SiO₂）成膜プロセスにおいて、実際に発生した失敗事例を通じて、失敗の原因とそこから得られる教
よくあるご質問
ALD装置について ALD装置の価格帯は？ 設置場所や仕様にもよりますが、700～5,000万円です。 ALD装置の納期は？ 現時点でスパッタ装置は、受注後約6ヵ月となります。 金属膜のALD成膜もできますか？ 社内実績はございません。 窒化膜のALD成膜もできますか
【YouTube更新】スパッタ成膜タイムアタック ～酸化シリコン最高レートへの挑戦～
酸化シリコン（SiO₂）成膜の“実際にかかる時間”を計測する「成膜タイムアタック」動画を公開しました。今回の動画では、当社製スパッタ装置「SSP1000キュービックスパッタ装置」を使用し、成膜開始から終了までの一連の流れをご紹介しています。チャンバーの真空引き、出力調整、成膜、ベント、基板取り出し
ALD（原子層堆積）の歴史｜半導体技術進化を支えた精密成膜の軌跡
現代のデジタル社会を支える半導体デバイスの進化は、精密な薄膜技術によって推進されてきました。 中でもALD（原子層堆積）は、原子レベルで膜を積み重ねる画期的な手法として、最先端デバイス製造に不可欠です。 本記事では、この精密成膜技術がフィンランドでの誕生から、半導体産業への本格
ALD（原子層堆積法）のプリカーサ（前駆体）とは？
「ALD（原子層堆積法）について調べているけれど、「プリカーサ」という言葉の意味がよくわからない…」「ALDで高品質な薄膜を作るために、プリカーサがなぜ重要なのか知りたい」 もしあなたがそうお考えなら、この記事がその疑問にお答えします。 ALD装置の導入実績が豊富な菅製作所が、
ALD（原子層堆積）の「面内分布」徹底解説：原理・重要性・課題
現代社会を支える半導体デバイスは、さらなる高性能化と微細化が求められています。その中で、原子レベルで極めて精密な薄膜を形成するALD（原子層堆積法）は、半導体製造において非常に重要な技術として注目されています。ALD技術の真価を発揮するために不可欠なのが、「面内分布」という概念です。
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