本動画では、半導体製造の前工程において回路パターンを形成する重要技術「フォトリソグラフィー」について、基礎からわかりやすく解説しています。

フォトリソグラフィーは、フォトレジストを塗布したシリコンウエハに光を照射し、フォトマスクを用いて微細な回路パターンを転写する工程です。半導体デバイスの微細化・高性能化を支える中核プロセスとして、現在の半導体製造に不可欠な技術となっています。

動画では、レジスト塗布、露光、現像といった基本工程の流れを整理するとともに、露光技術の進化にも触れています。g線、KrF、ArFといった光源の変遷から、最先端のEUV（極端紫外線）リソグラフィーまで、半導体微細化を支える技術の発展をコンパクトに理解することができます。

＜この動画で分かること＞

・フォトリソグラフィーの基本原理
・レジスト塗布、露光、現像など前工程の流れ
・半導体微細化を支える露光技術の進化
・EUVリソグラフィーの概要と役割

半導体製造プロセスをこれから学びたい学生・研究者の方、前工程の全体像を理解したい技術者の方、装置やプロセスに関心のある皆さまにも役立つ内容です。ぜひ動画をご覧いただき、フォトリソグラフィー技術への理解を深めていただければ幸いです。

今後も当社は、半導体製造技術や成膜・真空技術に関する解説コンテンツを発信してまいります。引き続きご期待ください。

フォトリソグラフィーとは？工程からEUVまで解説【半導体製造】