本動画では、真空環境下で基板搬送を行うトランスファー装置「STR2000」について、その特長や構成、活用シーンをわかりやすくご紹介しています。

半導体製造や薄膜成膜プロセスにおいて、真空を維持したまま基板を搬送する技術は、品質確保や生産効率向上の観点から非常に重要です。

STR2000は、真空チャンバー間での基板受け渡しをスムーズに行うことができ、ALDやスパッタなど各種成膜装置との組み合わせにも対応可能なトランスファーシステムです。研究開発用途から小規模生産まで、柔軟な装置構成を実現します。

＜この動画で分かること＞

・トランスファー装置の基本的な役割
・STR2000の構造と動作の特徴
・真空中での基板搬送のメリット
・成膜装置との連携や活用イメージ

真空装置の導入をご検討中の方、成膜プロセスの効率化を目指す技術者の方、装置構成の理解を深めたい方にも役立つ内容です。ぜひ動画をご覧いただき、装置選定やシステム構築の参考としてご活用ください。

今後も当社は、真空技術および各種装置に関する情報発信を行ってまいります。引き続きご期待ください。

真空内で基板搬送　トランスファー装置『STR2000』【菅製作所】のご紹介

↓　STR2000　↓