テスト成膜事例紹介 ~SAL1000B卓上型ALD装置でΦ45um Ni粉体にAl2O3成膜してみた~

テスト成膜事例紹介 ~SAL1000B卓上型ALD装置でΦ45um Ni粉体にAl2O3成膜してみた~

テスト成膜事例紹介

粉体にALD成膜可能なSAL1000BでΦ45um Ni粉体にAl2O3成膜してみた結果をご紹介します。

詳しくはこちらのレポートを見て貰いたいのですが、成膜条件は下記のようにセッティングを行い成膜しました。

  • 使用装置:SAL1000B
  • 基板回転:On
  • 振動:On
  • 装置角度:約8度
  • 基板温度:350℃
  • 試料:Φ45um Ni粉体
  • H2O開時間:15msec
  • H2O後Wait時間:15sec
  • TMA開時間:15msec
  • TMA後Wait時間:5sec
  • 繰返し回数:1500cycle

繰返し回数は1500cycleなので約165nmのAl2O3の成膜がされていると考えています。

通常

テスト成膜事例紹介
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菅製作所では、テスト成膜サービスも行なっております。

SAL1000Bでどのような成膜ができるのか気になる方は、お気軽にお問い合わせください。

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株式会社菅製作所

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北海道北斗市で、スパッタ装置やALD装置等の成膜装置や光放出電子顕微鏡などの真空装置、放電プラズマ焼結(SPS)による材料合成装置、漁船向け船舶用機器を製造・販売しています。
また、汎用マイコン・汎用メモリへの書込みサービスも行っています。

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