テスト成膜事例紹介

粉体にALD成膜可能なSAL1000Bでφ300μm TiビーズにAl2O3成膜してみた結果をご紹介します。

詳しくはこちらのレポートを見てもらいたいのですが、成膜条件は下記のようにセッティングを行い成膜しました。

成膜条件

• 使用装置：SAL1000B
• 基板回転：On
• 振動：On
• 装置角度:約8度
• 基板温度：350℃
• 試料：φ300μm Tiビーズ
• H2O開時間：15msec
• H2O後Wait時間:15sec
• TMA開時間：15msec
• TMA後Wait時間:10sec
• 繰返し回数：1150cycle

こちらの動画では、SAL1000Bでφ300μm Tiビーズへ成膜する前の撹拌状態を確認することができます。

菅製作所では、テスト成膜サービスも行なっております。

SAL1000Bでどのような成膜ができるのか気になる方は、お気軽にお問い合わせください。